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CY-VTC-3DC是專為非金屬薄膜鍍膜設計的三頭2"射頻等離子磁控濺射系統(tǒng)，主要用于多層氧化物薄膜，是新一代氧化物薄膜研究中性價比*高的鍍膜機 . 直流磁控濺射選項可根據要求提供金屬薄膜沉積，實現(xiàn)三個直流、一個射頻/兩個直流和兩個射頻/一個直流濺射頭配置.
磁控濺射鍍膜儀技術參數(shù)：
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項目 |
明細 |
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產品型號 |
CY-MSZ325-III-DCDCDC-SS |
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供電電壓 |
AC220V，50Hz |
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整機功率 |
6KW |
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系統(tǒng)真空 |
≦5×10-4Pa |
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樣品臺 |
外形尺寸 |
φ150mm |
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加熱溫度 |
≦600℃ |
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控溫精度 |
±1℃ |
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可調轉速 |
≦20rpm |
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磁控靶槍 |
靶材尺寸 |
直徑Φ50.8mm，厚度≦3mm |
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冷卻模式 |
循環(huán)水冷 |
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水流大小 |
不小于10L/Min |
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靶槍數(shù)量 |
3 |
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真空腔體 |
腔體尺寸 |
直徑φ300mm，高度500mm |
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腔體材質 |
SUU304不銹鋼 |
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觀察窗口 |
直徑φ100mm |
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開啟方式 |
頂開式 |
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氣體控制 |
1路質量流量計用于控制Ar流量，量程為:200SCCM |
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真空系統(tǒng) |
配分子泵系統(tǒng)1套，氣體抽速600L/S |
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膜厚測量 |
可選配石英晶體膜厚儀，分辨率0.10 ? |
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濺射電源 |
配直流電源,功率500W*3 |
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控制系統(tǒng) |
CYKY自研專業(yè)級控制系統(tǒng) |
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設備尺寸 |
540 mm L x 540 mm W x 1000 mm H |
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設備重量 |
145kg |
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