- 磁控濺射鍍膜儀
- 熱蒸發(fā)鍍膜儀
- 高溫熔煉爐
- 等離子鍍膜儀
- 可編程勻膠機
- 涂布機
- 等離子清洗機
- 放電等離子燒結爐
- 靜電紡絲
- 金剛石切割機
- 快速退火爐
- 晶體生長爐
- 真空管式爐
- 旋轉管式爐
- PECVD氣相沉積系統(tǒng)
- 熱解噴涂
- 提拉涂膜機
- 二合一鍍膜儀
- 多弧離子鍍膜儀
- 電子束，激光鍍膜儀
- CVD氣相沉積系統(tǒng)
- 立式管式爐
- 1200管式爐
- 高溫真空爐
- 氧化鋯燒結爐
- 高溫箱式爐
- 箱式氣氛爐
- 高溫高壓爐
- 石墨烯制備
- 區(qū)域提純爐
- 微波燒結爐
- 粉末壓片機
- 真空手套箱
- 真空熱壓機
- 培育鉆石
- 二硫化鉬制備
- 高性能真空泵
- 質量流量計
- 真空法蘭
- 混料機設備
- UV光固機
- 注射泵
- 氣體分析儀
- 電池制備
- 超硬刀具焊接爐
- 環(huán)境模擬試驗設備
- 實驗室產品配件
- 實驗室鍍膜耗材
- 其他產品
技術參數：
|
項目 |
明細 |
|
|
產品型號 |
CY-MSH300P-II-DCRF-SS |
|
|
供電電壓 |
AC220V，50Hz |
|
|
整機功率 |
3KW |
|
|
極限真空度 |
10-6torr |
|
|
載樣臺參數 |
尺寸 |
φ140mm |
|
加熱溫度 |
*高500℃ |
|
|
控溫精度 |
±1℃ |
|
|
轉速 |
1-20rpm可調 |
|
|
磁控濺射頭參數 |
數量 |
2個2”磁控濺射頭 |
|
冷卻方式 |
水冷，所需流速10L/min |
|
|
水冷機規(guī)格 |
10L/min流速的循環(huán)水冷機 |
|
|
真空腔體 |
腔體尺寸 |
φ300mm X 300mm H |
|
腔體材料 |
不銹鋼 |
|
|
觀察窗口 |
φ100mm |
|
|
開啟方式 |
上頂開式，便于更換靶材 |
|
|
氣體流量控制器 |
2路分別通Ar，N2； 量程均為0-100sccm |
|
|
真空泵 |
配有一套分子泵系統(tǒng)，抽速600L/S |
|
|
膜厚儀 |
石英振動薄膜測厚儀一臺，分辨率0.10 ? |
|
|
濺射電源 |
直流電源一臺，1000W，適用于制備金屬膜 射頻電源一臺，500W，適用于非金屬鍍膜 |
|
|
操作方式 |
面板按鈕操作 |
|
|
整機尺寸 |
1400mm X 750mm X 1300mm |
|
|
整機重量 |
300kg |
|
